
其他行業應用專題 | ALP_AN_223_CN_墨水粒度控制一體化解決方案
奧法美嘉微納米應用工程中心 - 范貯伶

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摘要:隨著印刷行業向數字化、高精度化轉型,噴頭堵塞與儲存沉淀成為制約墨水產品質量與生產效率的核心痛點,其根源均與墨水粒度分布不均、尾端大顆粒殘留及顆粒分散穩定性不足直接相關。奧法美嘉打造墨水粒度控制一體化解決方案,精準解決墨水堵頭與沉淀難題,實現墨水生產全流程粒度精準管控與穩定性保障。本文結合墨水生產全流程,詳細闡述該一體化解決方案的核心架構、產品應用及實際質控價值,為墨水行業質控升級提供技術參考與實踐支撐。
關鍵詞:墨水;粒度檢測;一體化解決方案;噴頭堵塞;沉淀穩定性
墨水行業作為印刷、工業制造等領域的核心配套產業,正處于數字化、環保化、功能化三重升級周期,市場規模穩步擴張。據國際機構Smithers 2025年報告預測,墨水市場將從2025年的358億美元,以2.4%–2.9%的復合增速增長,2030年有望突破400億美元。中國作為主要生產和消費市場,年增速保持在6%–8%,其中包裝、紡織、工業打印是核心增長場景,占整體超70%[1]。
未來行業關注點集中在綠色合規、精密適配、成本可控與供應鏈穩定。值得注意的是,隨著噴頭精度持續提升與連續化生產模式普及,墨水穩定性與防堵塞問題成為關鍵痛點——墨水顆粒不均、沉降析出、流變失控等問題,墨水行業的技術迭代與市場競爭,最終都將落腳于解決堵塞、提升穩定性這一基礎剛需,這也是行業高質量發展的核心突破口。
例如,高性能墨水的基石在于對顏料顆粒尺寸的精確控制。專業制造過程要求將顏料顆粒研磨至100-200納米的納米級別,這一尺寸范圍能有效防止打印頭堵塞,并確保墨水具備優異的流動性和鮮艷的色彩表現。

圖1:染料油墨圖[2]
墨水全生產流程圍繞“粒度形成-粒度管控-穩定性保障"三大核心展開,具體可分為七大關鍵環節:原料入廠(顏料、樹脂、溶劑、助劑等)→ 預處理混合(將各類原料均勻混合,初步分散)→ 均質研磨(核心粒度形成環節,通過均質設備將大顆粒細化為符合要求的小顆粒)→ 調配分散(添加分散劑、粘度調節劑等,優化顆粒分散效果)→ 過濾除雜(去除殘留大顆粒與雜質)→ 成品檢測(全面驗證質量指標)→ 儲存出廠。

圖2:墨水生產流程圖
各環節均與墨水堵頭、沉淀兩大痛點直接相關:均質研磨環節若處理不好,會直接產生尾端大顆粒,成為后續噴頭堵塞的核心隱患;調配分散環節若分散效果不佳,顆粒間作用力失衡,會為儲存沉淀埋下伏筆;過濾除雜環節若無法精準識別殘留大顆粒,會讓前期管控前功盡棄;儲存環節若缺乏穩定性監測,會導致墨水提前團聚、沉降,失效報廢。

結合墨水生產流程與行業痛點,墨水生產質控的核心需求可概括為兩點:一是清除墨水中的尾端大顆粒,確保成品墨水中無超標大顆粒,從根源上解決噴頭堵塞問題;二是提升墨水顆粒分散穩定性,精準預判墨水儲存穩定性與產品效期,解決儲存沉淀難題。
2.1 墨水的粒度控制
粒度控制是墨水品質的核心命脈,更是決定噴墨系統長期穩定運行的關鍵指標。高性能墨水必須實現粒徑分布高度均一。只有達到納米級精細化分散,墨水才能具備優異的流動性、著色力與色彩飽和度,滿足高精度打印需求。反之,墨水中一旦存在超標尾端大顆粒,極易造成噴頭微通道堵塞、斷線、飛墨、色差等致命問題,直接影響生產效率與噴頭壽命。

圖3:尾端大粒子造成噴頭堵塞圖
因此,在墨水生產全流程中,對顆粒尺寸進行實時、精準、一體化檢測,從源頭剔除大顆粒隱患,是保障墨水品質、提升產品競爭力的必要手段。
2.2 墨水的穩定性控制
墨水的另一大核心痛點是儲存穩定性差、易沉淀分層,且企業無法精準預判產品的效期,常出現產品未到保質期就已沉淀失效的情況,造成大量庫存損耗墨水的穩定性。為確保墨水長效使用性能,企業必須監測墨水在生產、儲存、運輸過程中的粒度穩定性,規避顆粒團聚、分層、粒度異變等問題。穩定性監測需要分析粒度的變化趨勢,提前預判隱患,這就對檢測產品的專業性與系統性提出了更高要求。
團聚顆粒會直接導致噴頭堵塞、墨滴軌跡偏移、打印重影 / 斷墨等問題出現。

(a)

(b)

(c)
圖4:三種油墨重復剪切后的電子顯微鏡圖像(FESEM,加速電壓15kv);
(a)油墨a,(b)油墨b,(c)油墨R--箭頭表示結塊的形成[3]
同時,GB/T13217.3-2022等行業標準對墨水的均勻性、分散穩定性提出嚴苛要求。靜置觀察、離心分層、普通顯微鏡觀測等傳統檢測手段因缺乏精準的“顆粒識別"與“穩定性預判"能力,難以滿足標準需求。[4]奧法美嘉一體化解決方案,以“精準檢測為眼睛,均質處理為手段,穩定性分析為保障",通過核心產品的協同應用,從源頭控制大顆粒、提升穩定性,讓墨水均一性與穩定性達到行業標準,擺脫堵頭與沉淀的質量困擾。

奧法美嘉針對墨水生產中粒徑不均、團聚沉降、噴頭易堵、批次不穩等痛點,提供從研磨分散→納米均質→精準檢測→穩定質控的全流程裝備與方案。

圖5:奧法美嘉墨水行業一體化解決方案
在研發階段,面對顏料分散不充分、粒徑分布寬、大顆粒難以精準表征、配方穩定性難預判等難題,可提供納米激光粒度儀、顆粒計數器、穩定性分析儀等檢測設備,實現粒徑精準測試、大顆粒定量監控、儲存穩定性快速評估,為配方優化提供可靠數據支撐。
在生產階段,面對研磨效率低、顆粒易二次團聚、批次差異大、量產放大難等問題,可提供高壓微射流均質機,實現顏料納米級解團聚,讓粒徑更均勻、分散更穩定,從源頭降低噴頭堵塞風險。
在質檢階段,面對成品放行標準不統一、大顆粒漏檢、批次一致性難保證等痛點,可提供離線粒度檢測與大顆粒計數系統,對每批次墨水進行嚴格復檢,確保出廠產品無超標大顆粒。
同時,方案支持全程在線監控,可實現在線粒徑監測、實時數據追溯與過程閉環控制,真正做到從原料、生產到成品的全鏈條質控。
整套方案支持從實驗室研發到工業化量產的線性放大,設備材質潔凈、運行穩定,可適配水性、溶劑型等各類墨水,全面提升產品儲存穩定性、打印流暢度與使用壽命,為高品質墨水規模化生產提供可靠支撐。
4.1 PSI高壓微射流均質機—均質研磨
高壓微射流均質機是墨水行業高精度的均質細化設備,作為一種新式制備設備越來越受到墨水行業的關注。

圖6:PSI高壓微射流均質機家族
PSI微射流均質機產品線覆蓋實驗室型、中試型、生產型三大核心系列,各系列型號按壓力、處理量、配置梯度劃分,以下為各階段主推型號及適配場景,優先推薦工藝放大無縫銜接的型號,減少小試到量產的工藝調試成本。
我們使用PSI-20小試型微射流高壓均質機,1400Bar的壓力均質4次,并采用美國Entegris(PSS)制造、生產的納米粒度分析儀Nicomp Z3000進行PSD粒度分析,結果如下:

圖7: Gussian粒徑分布圖
上圖四條曲線分別表示均質1~4次的PSD檢測結果譜圖,紫、藍、紅、綠分別代表1400Bar壓力下均質1、2、3、4次,未均質前,原料粒度分析平均粒徑檢測結果為1957nm,當均質1次后,粒徑檢測結果為291.4nm,均質2次后粒徑減小為135.8nm,隨著均質次數的增加,粒徑所減小的幅度越來越小,最終處理4次后該墨水粒徑檢測結果為67.5nm。
4.2 Nicomp納米激光粒度儀—平均粒徑檢測
平均粒徑(以D50為主)是墨水粒度檢測的核心指標,其數值直接關聯墨水的印刷光澤度、色彩均勻性與附著力:平均粒徑過大,易導致印刷表面粗糙、色澤暗淡;粒徑過小,則可能引發顆粒團聚,影響墨水穩定性。
Nicomp納米激光粒度儀可精準檢測納米級至微米級的顆粒平均粒徑,清晰識別粒度分布中的異常峰,預判大顆粒生成的趨勢,為后續均質、過濾環節提供提前預警。

圖8:Nicomp納米激光粒度儀
粒徑檢測范圍0.3nm-10μm,ZETA電位檢測范圍為+/-500mV
搭載Nicomp多峰算法,可以實時切換成多峰分布觀察各部分的粒徑。
高分辨率的納米檢測,Nicomp納米激光粒度儀對于小于10nm的粒子仍然現實較好的分辨率和準確度。
圖9的粒度分布是采用固定90度散射角,檢測稀釋了500倍的水性油墨。這是一個典型的DLS檢測方法。有一個峰值在30nm,主要的粒子都在這個峰附近分布,而另一個峰值接近100nm,可能聚集在一起。圖10是同樣的油墨,不進行稀釋,直接在背散射的模式下檢測出的結果。

圖9: 稀釋500倍Nicomp粒徑分布

圖10: 未稀釋油墨Nicomp粒徑分布
4.3 AccuSizer顆粒計數器—小粒子和尾端大粒子檢測
小粒子(過細顆粒)與尾端大粒子(超標大顆粒)的檢測,反映墨水的潛在質量隱患,也是行業內傳統檢測最難精準把控的環節。
小粒子易導致墨水團聚、穩定性下降,縮短儲存周期;尾端大顆粒則易堵塞印刷頭、刮傷印版,引發糊版、露底等印刷缺陷,尤其對于數字印刷墨水,尾端大顆粒的危害更為突出。
AccuSizer 顆粒計數器作為尾端大顆粒檢測的 “專屬利器",精準檢測0.5-400μm范圍內的尾端大顆粒,部署于均質研磨后、過濾前的關鍵節點,檢測尾端大顆粒的濃度與粒徑,從根源上解決噴頭堵塞的行業痛點。

圖11:AccuSizer A7000 APS顆粒計數器
檢測范圍為0.5μm-400μm(可將下限拓展0.15μm)。
0.01μm的超高分辨率,AccuSizer系列具有1024個數據通道,能反映復雜樣品的細微差異,為研發及品控保駕護航。
靈敏度高達10PPT級別,即使只有微量的顆粒通過傳感器,也可以精準檢測出來。
顏料的分散受多個因素影響,攪拌時間是其中之一。需要確定攪拌時間以減少分散體中尾端大顆粒的數量。監控攪拌時間同樣重要,因為過度均質化可能會導致顆粒粒徑增加。
我們對品紅色和青色兩種顏料分散體進行分析,以監測攪拌時間對尾端大顆粒的影響。圖12和圖13顯示了經過50、70和90分鐘攪拌的品紅色樣品的結果。尾部顆粒從4×106顆粒/mL減少到2×105顆粒/mL。

圖12. 攪拌對品紅色樣品的影響

圖13. 品紅色樣品尾端大顆粒放大圖
大于1微米的大顆粒濃度:
50分鐘:4×106顆粒/mL
70分鐘:5×105顆粒/mL
90分鐘:2×105顆粒/mL
圖14所示的青色樣品也隨著攪拌時間減少了超大顆粒的數量。顆粒濃度從900萬顆粒/mL減少到僅僅10分鐘攪拌后的大約300萬顆粒/mL。

圖14. 攪拌對青色樣品的影響
4.4 LUM穩定性分析儀—穩定性分析檢測
相較于即時穩定性,企業更需要精準知道墨水能穩定儲存多久,即產品的實際效期。奧法美嘉 LUMISIZER 穩定性分析儀通過加速沉降測試技術,可精準檢測顆粒的沉降速度、團聚趨勢,從而預判墨水的實際穩定效期,明確墨水多久后會出現沉淀、分層等不穩定現象。

圖15:LUMiSizer穩定性分析儀
快速、直接測試穩定性,無需稀釋,溫度范圍寬廣
可同時測12個樣品,測量及辨別不同的不穩定現象及不穩定性指數。
加速離心,等效2300倍重力加速度。
4.5 Nicomp Z3000納米粒度及電位分析儀—穩定性分析檢測
Nicomp Z3000納米粒度及電位分析儀可精準檢測墨水的ZETA電位數值,成為預判墨水即時分散穩定性的核心工具。在成品檢測環節,通過ZETA電位檢測,驗證墨水的分散穩定性是否達標,為產品質量提供核心保障。

圖16:Nicomp Z3000納米粒度及電位分析儀
Zeta電位電勢是粒子或乳狀液滴表面電荷的量度。這種電荷是分散穩定性的標志。ZETA電位接近零的分散體通常不穩定,容易聚集或相分離。ZETA電位越高,表明穩定性越好。
Nicomp使用基于頻譜分析法(frequency)和相位分析光散射(PALS)兩種技術來測量zeta電位。測量可以在低電場強度下進行,這對脆弱的樣品,如蛋白質或其他生物分子來說要溫和得多。 Zeta電位用于測試顆粒之間的排斥力,是判斷體系未來是否能保持穩定性的表征項目。

圖17:Zeta電位原理圖
4.6 Entegris濾芯-過濾
過濾是墨水粒度管控的收尾環節,也是確保成品粒度達標的一道防線,其核心作用是去除墨水中殘留的尾端大顆粒、雜質顆粒,最終校準墨水粒度,減少印刷隱患。過濾環節的管控,不僅需要合理設置過濾參數,更需要實時驗證過濾效果,確保過濾后的墨水粒度符合標準,而這一過程離不開精準的檢測數據支撐。
Entegris-Anow是一家高分子微孔膜過濾企業,專業從事 MCE、NyIon、PES、PVDF、PTFE等(膜孔徑為0.03μm~10μm)微孔膜的研發及生產,具有二十多年服務與醫藥客戶經驗,并為生物制藥、醫療器械、食品飲料、實驗室分析、微電子及工業等領域的客戶提供過濾,分離和凈化解決方案

圖18:Entegris 濾芯
結論
噴頭堵塞與儲存沉淀是墨水行業的兩大核心痛點,直接制約墨水產品質量、生產效率與企業發展,而精準的粒度檢測與系統的質控閉環,是破解這兩大痛點、實現墨水質控升級的關鍵。奧法美嘉墨水粒度檢測一體化解決方案,整合Nicomp多峰粒度儀、AccuSizer顆粒計數器、ZETA電位分析儀、LUMISIZER穩定性分析儀等核心產品,搭配均質設備與智能調控系統,構建了“檢測識別-均質細化-穩定性分析-閉環調控"的全流程質控體系,精準實現了大顆粒的精準識別與清除、墨水穩定性的精準預判與產品效期的科學驗證。
該解決方案不僅破解了墨水行業的兩大核心痛點,還實現了墨水質控模式的升級與生產流程的優化,幫助墨水企業降本增效、提升產品競爭力,為墨水行業質控升級提供了可靠的技術支撐與實踐方案。助力更多墨水企業實現質控升級,推動墨水行業向高品質、智能化、綠色化方向高質量發展。
參考文獻
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[3] Cox D, Wylie B, Stringer J. Novel device for determining the effect of jetting shear on the stability of inkjet ink[J]. Journal of Print and Me dia Technology Research, 2021, 10(1): 1-13.
